Ionenstrahlunterstützter optischer Beschichter mit Abscheidung und Verdampfung
Beschreibung
Hierbei handelt es sich um High-End-Geräte zur Herstellung ultrapräziser optoelektronischer Geräte. Der Schwerpunkt liegt auf einer hochwertigen optischen Beschichtung, die einen extrem niedrigen Streuwert und eine extrem niedrige Defektdichte aufweist. Geeignet für die hochpräzise Beschichtungsproduktion in anspruchsvollen Anwendungen wie Laser, optische Kommunikation, Luft- und Raumfahrt, Biomedizin, Automobiloptik, MEMS-Sensoren und Pan-Halbleiter.
Anwendung
Blaues Glas und weißes Glas IR-CUT, blaues Glas und weißes Glas AR, Harzlinse AR, rechtwinkliges Periskopprisma usw.
Merkmale
- Standardmaschine für die Massenproduktion
- Echtzeit-Online-Überwachung
- Vollständig autonome optische Steuerung
- Offenes Prozessdesign
- RISE RF-Ionenquelle: Der Ionenstrahlstrom ist präzise und kontrollierbar, mit langer kontinuierlicher Arbeitszeit, geeignet für verschiedene Arbeitsgase und schadstofffrei für die Filmschicht.
- Einzigartige Plasmaquelle: Hochfrequenzantrieb, verbrauchsmaterialfreier Betrieb, Bereitstellung reiner Sauerstoffionen, Gewährleistung hervorragender Spektralindikatoren in bestimmten Bändern.
- Lichtgesteuert: Lichtgesteuerte Filmbildungskontrollgenauigkeit: 0,1-0,3 %, mit einzigartiger Struktur und effizientem optischen Pfaddesign, Echtzeiterfassung von Ultrahochgeschwindigkeits-Spektraldaten und unabhängig entwickelten intelligenten lichtgesteuerten Kernalgorithmus.
- Innovatives Steuerungssystem: Offene modulare Systemarchitektur, ein intelligentes Steuerungssystem auf Basis von ARM, benutzerfreundliche Mensch-Maschine-Interaktionserfahrung, Unterstützung von IoT- und Cloud-Computing-Architektur.
Technische Parameter
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Modell |
OPIE1550 |
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Vakuumraum |
SUS304, φ1550mmx1600mm(H) |
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Vakuumsystem |
4 Molekularpumpen +1 Satz mechanische Pumpe/Roots-Pumpeneinheit |
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Werkstückständer |
Werkstückscheibendurchmesser 1460 mm, Drehzahl 0-30 U/min |
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Dampfquelle |
2 Sätze elektronischer Pistolen (Doppelpistolen, Dual-Scanning, Dual-Filamente, 270-Grad Strahlabweichungswinkel, Leistung 10 kW) |
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Ablagerungssystem |
RISE-Hochfrequenz-Ionenquelle + spezielle Plasmaquelle (optional) |
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Kontrollsystem |
Intelligentes Steuerungssystem für die Vakuumabscheidung |
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Überwachungssystem |
Das System zur Überwachung der Kristallschichtdicke |
nach spezifischen Anforderungen konfiguriert, Standardkonfiguration |
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Optisches Dünnschicht-Echtzeitüberwachungssystem |
Selbstentwickeltes optisches Kontrollsystem (breites Spektrum, einzelne Wellenlänge) optional |
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Tiefenkühlsystem |
Kompressorleistung 10 kW, Spulenkühltemperatur<-130°C |
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